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搪玻璃反应釜的静电释放有哪些措施

发布时间:2019-06-26 07:29浏览次数:

        当有电荷向绝缘材料转移时,会产生电荷积累,电荷积累达到一定的电压时,就会有静电释放的发生,静电的产生和积累是同时的,电荷积累电压最高能达到50000-100000V,而这正体现在搪玻璃反应釜中,反应釜在物料反应的过程中在设备的内壁搪瓷层很容易产生静电,然而反应物料的静电释放很容易造成搪玻璃瓷层的损坏。
  1、评估绝缘溶液或添加粉末,导致电火花的潜在可能;
  2、降低搪玻璃反应釜的搅拌速度;
  3、通过内伸管加入液体,可使其从液面以下加入;
  4、混合水或可溶性添加剂以增加溶液导电率
  5、在气相空间加入惰性气体(氮气)以防爆炸;
  搪玻璃反应釜内搅拌带有悬浮物的液体,悬浮物与搪瓷强烈的磨擦,同时悬浮物自身也产生磨擦,这样就产生大量的静电荷,高的静电荷对搪瓷产生强烈的穿刺作用,从而导致搪瓷点蚀,因此搅拌转速不宜太快。
搪玻璃反应釜

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